Substratu LiAlO2

U sustrato LiAlO2 si riferisce à un sustrato fattu di l'ossidu di lithium aluminium (LiAlO2).LiAlO2 hè un compostu cristalinu chì appartene à u gruppu spaziale R3m è hà una struttura cristallina triangulare.

I sustrati di LiAlO2 sò stati aduprati in una varietà di applicazioni, cumprese a crescita di film sottili, strati epitassiali è eterostrutture per dispositivi elettronici, optoelettronici è fotonici.A causa di e so eccellenti proprietà fisiche è chimiche, hè soprattuttu adattatu per u sviluppu di dispusitivi semiconductor di banda larga.

Una di l'applicazioni principali di i sustrati LiAlO2 hè in u campu di i dispositi basati in Gallium Nitrude (GaN) cum'è Transistor High Electron Mobility (HEMTs) è Light Emitting Diodes (LEDs).A discordanza di lattice trà LiAlO2 è GaN hè relativamente chjuca, facendu un sustrato adattatu per a crescita epitaxial di film sottili GaN.U sustrato LiAlO2 furnisce un mudellu d'alta qualità per a deposizione di GaN, risultatu in un rendimentu è affidabilità di u dispositivu megliu.

I sustrati di LiAlO2 sò ancu usati in altri campi, cum'è a crescita di materiali ferroelectrici per i dispositi di memoria, u sviluppu di i dispositi piezoelectrici è a fabricazione di batterie di stati solidi.E so proprietà uniche, cum'è una alta conductività termale, una bona stabilità meccanica è una bassa constante dielettrica, li dannu vantaghji in queste applicazioni.

In riassuntu, u sustrato LiAlO2 si riferisce à un sustrato fattu di oxidu d'aluminiu di lithium.I sustrati LiAlO2 sò usati in diverse applicazioni, in particulare per a crescita di i dispositi basati in GaN, è u sviluppu di altri apparecchi elettronichi, optoelettronici è fotonici.Possenu proprietà fisiche è chimiche desiderate chì li facenu adatti per a deposizione di filmi sottili è eterostrutture è migliurà u rendiment di u dispusitivu.